光刻胶是半导体制作的关键材料，被誉为电子化学品产业“皇冠上的明珠”。其能够利用光化学反应，经过曝光、显影等光刻工艺，将所需微细图形从掩模版转移到待加工基片上。半导体光刻胶品种众多，包括EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶、I/G线光刻胶。
就现状看，业界指出，我国光刻胶国产化率较低，供应链依旧存在着较大的不稳定现象，G/I线国产化率为10%，高端的KrF、ArF 国产化率不足5%。近日，多家企业光刻胶传来最新动态，进一步推动国产化步伐。
3月15日，上海新阳发布公告称公司拟以增资方式投资浙江新盈电子材料有限公司（以下简称“浙江新盈”）。
据悉，浙江新盈设立时注册资本金为3500万元，现上海新阳认缴出资500万元对该公司增资。此次增资完成后，公司直接持有浙江新盈12.5%的股份。据悉，浙江新盈具有光刻胶树脂等原材料产品研发团队，具备光刻胶树脂等原材料研发、生产工艺技术及质量管控、客户技术服务能力等专有技术。
上海新阳表示，根据公司未来业务扩展需要，公司拟增资浙江新盈，有利于公司光刻胶产品业务的纵深发展，符合公司的战略目标，助力我国半导体领域关键工艺材料产业链早日贯通并规模化量产。
上海新阳3月14日晚间发布年报，同时公司将调整高端光刻胶项目，并新增投资“ArF浸没式光刻胶研发项目”及“偿还项目贷款”。
财报数据方面，2023年该公司实现营业收入12.12亿元，同比增长1.4%；净利润1.67亿元，同比增长213.41%，扣非后净利润实现1.23亿元，同比增长10.27%。其中海新阳半导体行业实现营业收入7.68亿元，同比增长20.06%。
具体产品来看，在集成电路制造用清洗液产品方面，上海新阳28nm干法蚀刻后清洗液产品已规模化量产，14nm技术节点干法蚀刻后清洗液也已量产并实现销售，该公司干法蚀刻后清洗液产品已经实现14nm及以上技术节点全覆盖。
另外，上海新阳光刻胶项目研发进展顺利，I线、KrF光刻胶产品工艺性能指标不断优化提升，满足客户的工艺需求。目前光刻胶已具备量产能力，在超20家客户端提供样品进行测试验证。报告期内光刻胶系列产品已实现营业收入400余万元；化学机械研磨液已有多款产品通过客户测试，实现销售。
从募投项目进展来看，上海新阳“集成电路制造用高端光刻胶研发、产业化项目”（以下简称“高端光刻胶项目”）本期投资进度为19.15%，累计实现效益1.52亿元。同日，公司公告变更高端光刻胶项目部分募集资金用途，用于新增项目“ArF浸没式光刻胶研发项目”及“偿还项目贷款”，同时对高端光刻胶项目预计完成时间进行调整，并将“集成电路关键工艺材料项目”结项。
具体来看，为提高募集资金的使用效率，上海新阳计划将高端光刻胶项目募投金额从4.26亿元调减至1.81亿元，其中，调减的约2.45亿元用于新增的“ArF浸没式光刻胶研发项目”以及“偿还项目贷款”项目，变更涉及金额占募集资金净额比例为31.07%。
据介绍，高端光刻胶项目主要开发集成电路制造中ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND（闪存，属于非易失性存储器）台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品。截至2023年12月31日，该项目中的“KrF厚膜光刻胶”项目已经达到预定可使用状态，产品已经通过客户认证，取得订单并产生销售收入；“ArF干法光刻胶”项目的产线已经投入运行，产品仍在客户认证阶段，研发工作还在进行，因此公司决定调减项目拟募投资金。
另一方面，本次新增的“ArF浸没式光刻胶研发项目”于2020年在公司立项，项目预计投资总额为4.2亿元，主要针对193nmArF浸没式光刻胶产品的研发，目前已进入关键研发阶段，拟使用募集资金投入1.65亿元。
近日容大感光获12家机构调研，提及半导体用光刻胶收入及布局时表示，公司2023年前三季度累计实现营业收入57,804.68万元，其中，显示用光刻胶及半导体用光刻胶销售额占公司总销售额的比例较小。目前看，显示用光刻胶及半导体用光刻胶国产化率较低，未来几年，国内光刻胶厂商实现技术突破并实现进口替代的空间仍然巨大。
据悉，容大感光半导体用光刻胶主要客户有扬杰科技、华微电子等企业，该公司表示，半导体用光刻胶有部分原材料仍需要进口，若被限制采购，公司将使用替代方案保证供应链的安全。
目前容大感光半导体光刻胶产品主要为g线光刻胶和i线光刻胶，主要应用于半导体分立器件、集成电路产品生产流程中的光刻工艺，具备耐热性好、刻蚀效率较高的特点。光刻胶行业的技术壁垒较高，并且下游产业对产品性能要求不断提升，为保持公司的核心竞争优势，未来公司将会持续保持产品研发投入力度，不断提高产品性能，丰富产品体系。3月12日，容大感光在互动平台表示，公司目前可以用于芯片制程的i线光刻胶可以满足0.35μm及以上线宽的光刻需求。
彤程新材2023年末官方表示，年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目工程阶段已竣工，目前已逐步进入试生产阶段。
据悉，该公司上海化学工业区工厂占地36200平方米，设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂（光刻胶去边剂）。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下，完成了产线优化及品控升级。此前公告，公司决定通过全资子公司上海彤程电子材料有限公司在上海化学工业区投资建设该项目。
据悉，彤程新材上海化学工业区工厂年产1千吨半导体光刻胶量产产线，主要包括年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线，通过采用超高纯PFA（涂层）设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统，可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控，具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。
在ArF光刻胶产品方面，该公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发，首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品，已具备量产能力，目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段，能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商，能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。
彤程新材表示，公司G线光刻胶已经占据国内较大的市场份额；I线光刻胶已广泛应用于国内6"、8"、12"集成电路产线，支持的工艺制程涵盖14nm及以上工艺。KrF光刻胶量产品种达20种以上，稳定供应国内头部芯片制造商。
3月11日，奥诚电子PCB光刻胶等产品生产项目签约落户湖南省长沙市望城经开区。项目总投资2.2亿元，计划周期为18个月，主要建设12000吨/年PCB用光刻胶生产项目生产线等。项目全面投产后，预计实现年产值4亿元。
公开资料显示，奥诚电子成立于2009年，是一家集PCB用光刻胶生产、销售、研发于一体的高科技技术企业，产品主要服务于新能源汽车、电子产品、智能制造等领域。奥诚电子率先在全国推出的LDI光刻胶，实现了国产零的突破，是国内目前能满足市场质量需求PCB用LDI光刻胶仅有的3家生产企业之一。
封面图片来源：拍信网
