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行业资讯
联电发布55纳米BCD工艺平台
2025-10-23

联华电子(UMC)于2025年10月22日正式发布全新的55纳米BCD(双极-互补金属氧化物半导体)工艺平台,标志着公司在电源管理领域迈出重要一步。该平台支持在单一芯片上集成模拟、数字与电力元件,广泛应用于电源管理及混合信号集成电路,旨在提升移动设备、消费电子及汽车工业产品的能效表现及可靠性。

联电的55nm BCD平台包含三种制程工艺:

- 非外延(Non-EPI)工艺:提供高性价比方案,适合移动及消费电子设备的电源效率与模拟性能需求。
- 外延(EPI)工艺:符合严格的汽车行业AEC-Q100 Grade 0标准,支持最高150V操作电压,增强汽车电子设备在极端环境下的可靠性。
- 绝缘层上硅(SOI)工艺:符合AEC-Q100 Grade 1标准,具备优异的抗噪声特性和超低漏电流,适合高端汽车及工业应用。

联电技术研发副总经理徐世杰指出,55nm BCD平台是公司BCD技术布局的重要里程碑,完善了特殊制程产品组合,提升了电源管理市场的竞争力。尽管55nm BCD技术市场已有多年应用,联电此次推出的新平台集成了卓越的组件特性,助力客户开发创新电源解决方案,涵盖智能手机、可穿戴设备、汽车、智能家居及智能工厂等多领域。

此外,55nm BCD平台整合了超厚金属层(UTM)、嵌入式闪存(eFLASH)以及忆阻器(RRAM)等先进技术。这些融合不仅提升了平台性能与系统集成度,还实现了更小芯片面积与更低功耗,展现优异的抗噪声能力,为电源电路设计带来更高灵活性及可靠性。